痕量和超痕量分析在科研、工業(yè)和檢測等各個領域發(fā)揮著越來越重要的作用，這些靈敏的分析技術對分析過程中的污染風險零容忍。純水在其中，參與清洗部件、冷卻、標準曲線繪制、樣品制備等諸多環(huán)節(jié)。水的純度，必須符合嚴苛的要求。
Genie De-ion 是樂楓設計，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端，提供離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平的分析級超純水，使用者可通過Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開關控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）、石墨爐原子吸收（GF-AAS）等多種痕量/ 超痕量元素分析技術。
特點
● 裝有 ICP 型超純化柱，對超純水進行深度純化進一步去除痕量離子，持續(xù)提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。
· 優(yōu)化水路設計，提高過水量，水質穩(wěn)定。
· 柱體強耐壓，接口雙重密封，漏水風險低。
· 帶智能識別碼（RFID），智能化管理，工作狀態(tài)實時監(jiān)控，追溯水質歷史數(shù)據(jù)、使用參數(shù)等。
· 安裝更換簡單，可以單手操作。
● 終端自帶彩色觸摸屏
· 2.4 英寸，實時顯示水質/ 流速等常用信息。
· 可戴手套和帶水操作。
· 設置手動或定量取水，調節(jié)流速。
● 布局靈活，安裝便利，節(jié)省實驗室空間
典型應用 · ICP-MS 分析 · 石墨爐原子吸收光譜分析 · 痕量和超痕量元素分析 · 關鍵儀器清洗等 | 應用領域/ 行業(yè) · 電子、芯片、半導體 · 食品、農業(yè)、藥品、醫(yī)學 · 環(huán)保、地質 · 核工業(yè)、能源、法醫(yī)、 · 化學化工等 |
性能指標
超純水技術指標 | |
取水流速 | 0 - 1.5 L/min |
電阻率 ( ＠ 25℃ ) | 18.2 MΩ·cm |
TOC | < 5 ppb |
尺寸及重量 | |
寬 × 深 ×高 | 21 cm × 29 cm × 53 cm |
重量 | 21 kg |
